華福包裝專業(yè)包裝(圖),pet金膜批發(fā),pet金膜：

彩色鍍鋁膜,鍍鋁紙,鐳射紙

pet金膜按材質探討分析性能特點

　　CPP鍍鋁膜：以CPP薄膜為原料，經(jīng)真空鍍鋁加工而成；具有始封溫度低、熱封溫度寬、強度高、光澤度高、金屬感強、鍍鋁均勻度好等特點；廣泛用于軟包裝復合、食品包裝、玩具、汽球等領域。

　　PET鍍鋁膜：以PET薄膜為原料，經(jīng)真空鍍鋁加工而成；具有鋁層附著力好，pet金膜，對油墨附著力強，適用于平版、凹版、柔版等各種印刷的特點；廣泛用于印刷、復合、拉花、紡織金銀線、不干膠等領域。

　　BOPP鍍鋁膜：以BOPP薄膜為原料，經(jīng)真空鍍鋁加工而成；具有鍍鋁層豐滿平滑，鋁層附著力好，對油墨附著力強，pet金膜廠家直銷，適用于平版、凹版、柔版等各種印刷的特點；廣泛用于軟包裝、復合、裝潢、激光全息防偽、激光壓印鐳射等領域。

　　其它基材鍍鋁膜：主要是以PVC、PA、PE等為基材的鍍鋁膜產(chǎn)品，按照客戶需求靈活選擇。

鍍鋁膜的特點及應用

鍍鋁膜復合產(chǎn)品具有塑料薄膜的特性;其次表面一層致密的“鍍鋁”有較好的阻隔效果;同時在外觀上也比較鮮艷，從而起到美化產(chǎn)品的包裝效果;另外它在一定程度上替代了鋁箔復合包裝

　在軟包裝中使用鍍鋁薄膜主要有以下幾方面的突出優(yōu)點：

　　首先鍍鋁膜復合產(chǎn)品具有塑料薄膜的特性；其次表面一層致密的“鍍鋁”有較好的阻隔效果；同時在外觀上也比較鮮艷，從而起到美化產(chǎn)品的包裝效果；另外它在一定程度上替代了鋁箔復合包裝，從而降低了包裝成本。

（1）鍍鋁膜具有極l佳的金屬光澤和良好的反射性，給人一種富麗華貴的感覺，用它來包裝商品可以起到美化商品、提高商品檔次的作用。

（2）鍍鋁膜具有優(yōu)良的阻氣性、阻濕性、遮光性和保香性，不但對氧氣和水蒸汽有較強的阻隔性，而且?guī)缀蹩梢宰韪羲械淖贤饩€、可見光和紅外線，可以延長內容物的保存期和貨架壽命，pet金膜廠家對比，因此，對于食品、藥品以及其它一些需要延長保存期的產(chǎn)品來說，采用鍍鋁薄膜作為包裝是一種相當不錯的選擇，可以防止由于吸濕、透氧、光線照射等原因而使食品或者內容物發(fā)生腐l敗、變質等現(xiàn)象。此外，鍍鋁膜還具有保香性，香氣透過率小，能夠長久保持內容物的香氣不散失。因此，鍍鋁膜不失為一種優(yōu)良的阻隔性包裝材料。

　　正是由于具有以上幾方面的突出優(yōu)點，使得鍍鋁膜的應用越來越廣泛，已經(jīng)成為了軟包裝行業(yè)內應用十分普遍的一種包裝材料。鍍鋁膜的種類很多，目前應用多的鍍鋁膜主要是聚酯鍍鋁膜（VMPET）和CPP鍍鋁膜（VMCPP），聚酯鍍鋁膜（VMPET）一般用作復合包裝的中間層，由于其外觀漂亮，在高l檔包裝中應用多，如奶粉、茶葉等包裝袋。CPP鍍鋁膜（VMCPP）一般用作復合包裝的熱封層，常用于普通的小食品（比如餅干）包裝。

真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度，使材料中分子或原子的熱振動能量超過表面的束縛能，從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華，并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場的作用下的高速運動轟擊作為陰極的靶，使靶材中的原子或分子逸出來而沉淀到被鍍工件的表面，形成所需要的薄膜。

真空蒸發(fā)鍍膜常用的是電阻加熱法，其優(yōu)點是加熱源的結構簡單，造價低廉，操作方便；缺點是不適用于難熔金屬和耐高溫的介質材料。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對被轟擊材料加熱，電子束的動能變成熱能，使材料蒸發(fā)。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源，但由于大功率激光器的造價很高，pet金膜定做，目前只能在少數(shù)研究性實驗室中使用。

濺射技術與真空蒸發(fā)技術有所不同?！盀R射”是指荷能粒子轟擊固體表面（靶），使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。射出的粒子大多呈原子狀態(tài)，常稱為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子，離子或中性粒子，因為離子在電場下易于加速獲得所需要動能，因此大都采用離子作為轟擊粒子。濺射過程建立在輝光放電的基礎上，即濺射離子都來源于氣體放電。不同的濺射技術所采用的輝光放電方式有所不同。直流二極濺射利用的是直流輝光放電；三極濺射是利用熱陰極支持的輝光放電；射頻濺射是利用射頻輝光放電；磁控濺射是利用環(huán)狀磁場控制下的輝光放電。濺射鍍膜與真空蒸發(fā)鍍膜相比，有許多優(yōu)點。如任何物質均可以濺射，尤其是高熔點，低蒸氣壓的元素和化合物；濺射膜與基板之間的附著性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重復性好等。缺點是設備比較復雜，需要高壓裝置。此外，將蒸發(fā)法與濺射法相結合，即為離子鍍。這種方法的優(yōu)點是得到的膜與基板間有極強的附著力，有較高的沉積速率，膜的密度高。

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